EUV級別正式官宣！日企剛發(fā)聲，中企就發(fā)起沖擊

EUV ，已經(jīng)成為突破高端芯片繞不開的話題。由于出口限制
，EUV光刻機我們只能自己去突破。而要自主造出高端芯片，還有一項也要突破，那就是EUV級別的光刻膠。

一個是設(shè)備，一個是材料 ，兩個都是高端芯片制造必不可少的關(guān)鍵，都被外企壟斷
，都需要自主突破
。然而 ，光刻膠巨頭近日指出我們做不出EUV，于是中企發(fā)起沖擊。

日企光刻膠巨頭發(fā)聲

據(jù)外媒消息
，日本一家光刻膠企業(yè)叫JSR ，其CEO在接受采訪時表示，我們很難掌握EUV極紫外光刻的復(fù)雜芯片制造技術(shù)。這意思主要是，我們很難造成EUV光刻機。

還表示 ，即使我們拿到了關(guān)于化學(xué)成分細節(jié)的論文 ，在純度、精度和大規(guī)模量產(chǎn)方面也很難成功做出
。這說的基本上就是光刻膠了，并且應(yīng)該指的是先進的EUV光刻膠  。

這位CEO算是行業(yè)內(nèi)有一定地位的人士，但他的這些觀點似乎還是有點太片面了。

要實現(xiàn)高端芯片制造，主要就是要解決芯片制造技術(shù)、設(shè)備和材料這三方面問題。

首先，要突破芯片制造技術(shù) 。我們芯片制造技術(shù)最先進的就是中芯國際 ，因為有芯片大佬梁孟松的加入
，僅用三年多時間就完成了28nm到7nm五個世代的技術(shù)研發(fā)
。

目前
，中芯已經(jīng)量產(chǎn)了28nm、14nm、12 nm和N+1等工藝 ，7nm技術(shù)開發(fā)已經(jīng)完成，5 nm和3 nm技術(shù)開展已展開，就差EUV光刻機到來，可見技術(shù)不是問題 。

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