EUV級(jí)別正式官宣 ！日企剛發(fā)聲 ，中企就發(fā)起沖擊

EUV，已經(jīng)成為突破高端芯片繞不開(kāi)的話題。由于出口限制，EUV光刻機(jī)我們只能自己去突破
。而要自主造出高端芯片，還有一項(xiàng)也要突破 ，那就是EUV級(jí)別的光刻膠 。

一個(gè)是設(shè)備 
，一個(gè)是材料
，兩個(gè)都是高端芯片制造必不可少的關(guān)鍵，都被外企壟斷 ，都需要自主突破。然而，光刻膠巨頭近日指出我們做不出EUV ，于是中企發(fā)起沖擊。

日企光刻膠巨頭發(fā)聲

據(jù)外媒消息 ，日本一家光刻膠企業(yè)叫JSR
，其CEO在接受采訪時(shí)表示 ，我們很難掌握EUV極紫外光刻的復(fù)雜芯片制造技術(shù)。這意思主要是，我們很難造成EUV光刻機(jī)
 。

還表示  ，即使我們拿到了關(guān)于化學(xué)成分細(xì)節(jié)的論文，在純度、精度和大規(guī)模量產(chǎn)方面也很難成功做出。這說(shuō)的基本上就是光刻膠了，并且應(yīng)該指的是先進(jìn)的EUV光刻膠。

這位CEO算是行業(yè)內(nèi)有一定地位的人士，但他的這些觀點(diǎn)似乎還是有點(diǎn)太片面了 。

要實(shí)現(xiàn)高端芯片制造，主要就是要解決芯片制造技術(shù)、設(shè)備和材料這三方面問(wèn)題。

首先，要突破芯片制造技術(shù)
。我們芯片制造技術(shù)最先進(jìn)的就是中芯國(guó)際，因?yàn)橛行酒罄辛好纤傻募尤?，僅用三年多時(shí)間就完成了28nm到7nm五個(gè)世代的技術(shù)研發(fā)。

目前，中芯已經(jīng)量產(chǎn)了28nm 、14nm
、12 nm和N+1等工藝，7nm技術(shù)開(kāi)發(fā)已經(jīng)完成 ，5 nm和3 nm技術(shù)開(kāi)展已展開(kāi) 
，就差EUV光刻機(jī)到來(lái)，可見(jiàn)技術(shù)不是問(wèn)題 。

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