國(guó)產(chǎn)芯片領(lǐng)域“破冰”，自主攻克重要芯片材料
，技術(shù)水平趕超美日

本文原創(chuàng)
，禁止搬運(yùn)和抄襲，違者必究！

一顆智能手機(jī)的SOC芯片只有指甲蓋大小 ，看起來(lái)毫不起眼 。但是想要造出一顆高端芯片 ，背后至少是百億美元級(jí)別的投資  ，從研發(fā)到生產(chǎn)落地，再到上市銷(xiāo)售
，需要經(jīng)歷一系列的流程
。

而在芯片制造過(guò)程中 ，涉及到各種各樣的材料更是數(shù)量繁多
。而國(guó)內(nèi)科研人員攻堅(jiān)克難，終于在光刻膠方面實(shí)現(xiàn)破冰，研制出“光敏聚酰亞胺光刻膠” 。

這是怎樣的光刻膠產(chǎn)品呢 ？國(guó)產(chǎn)光刻膠處于什么水平 ？

國(guó)產(chǎn)光刻膠破冰

光刻膠對(duì)于芯片制造的成本并不是很高，和光刻機(jī)，刻蝕機(jī)等半導(dǎo)體設(shè)備相比，光刻膠的成本占光刻工藝不到一成的成本。

可是如果沒(méi)有光刻膠，光刻膠曝光的圖形便無(wú)法顯影的晶圓表面 ，刻蝕機(jī)更加無(wú)法進(jìn)行芯片線路的刻蝕。因?yàn)楣饪棠z可以起到保護(hù)襯底，形成曝光圖形的媒介作用。

但是光刻膠技術(shù)主要掌握在日本手中，相關(guān)的產(chǎn)業(yè)鏈被日本所壟斷
。不管是低端的g線，i線光刻膠，還是高端的EUV光刻膠 ，日本企業(yè)提供的產(chǎn)品均位居一線水準(zhǔn)，被臺(tái)積電
 ，三星等爭(zhēng)相采購(gòu)。

國(guó)內(nèi)發(fā)展芯片制造同樣離不開(kāi)對(duì)外進(jìn)口光刻膠